Яфаров, Равиль Кяшшафович (доктор технических наук; заведующий лабораторией). Влияние плазмохимической модификации поверхности на поперечный электронный транспорт и вольт-амперные характеристики кремниевых структур металл–диэлектрик–полупроводник [] / Р. К. Яфаров, Д. В. Нефедов> // Известия Саратовского университета. Новая серия. Сер.: Физика. - 2019. - Вып. 1. - С. 76-82 : рис. - Библиогр.: с. 81 (11 назв.). - Библиогр. на рус. и англ. яз. - Зональная научная библиотека им. В. А. Артисевич Саратовского государственного университета. - code, isg2. - year, 2019. - vy, 1. - ss, 76. - ad, 1. - d, 2019, , 0, y. - RUMARS-isg219_vy1_ss76_ad1
Рубрики: Физика Молекулярная физика в целом Кл.слова (ненормированные): вольт-амперные характеристики -- встроенные поверхностные потенциалы -- металл–диэлектрик–полупроводник -- микроволновая плазма -- перенос электронов -- плазмохимическая модификация Аннотация: Исследуются закономерности модификации вольт-амперных характеристик (ВАХ) структур металл–диэлектрик–полупроводник (МДП) за счет формирования встроенных поверхностных потенциалов. Поверхностные потенциалы образуются при получении атомарно чистой поверхности кристаллов кремния с использованием микроволновой плазменной микрообработки. Целью работы является исследование влияния плазменной микрообработки в различных химически активных газовых средах на свойства кремниевых МДП структур. Микроволновая плазменная микрообработка подзатворной области проводилась в среде хладона-14 или аргона. Далее на подзатворную область структуры в том же технологическом цикле последовательно осаждались герметизирующий туннельно тонкий (10–20 нм) слой карбида кремния и слой диоксида кремния толщиной 0. 5 мкм. На области стока и истока осаждался слой аморфного кремния толщиной 20 нм. В ходе измерения вольт-амперных характеристик экспериментально установлено и предложена интерпретация влияния поверхностных потенциалов на перенос электронов и крутизну вольт-амперных характеристик кремниевых устройств металл–диэлектрик–полупроводник. Доп.точки доступа: Нефедов, Денис Владимирович (кандидат технических наук; научный сотрудник) Нет сведений об экземплярах (Источник в БД не найден) |